光学関連半導体製造, EUV
ADEKA、EUVレジスト用光酸発生剤の生産能力を2倍へ一約10億円を投じ2028年9月稼働
EUVリソグラフィ用フォトレジスト材料である光酸発生剤(PAG)の製造能力を約2倍に増強すると発表した。投資額は約10億円で、2027年1月に生産準備を開始し、2028年2月竣工・同年9月稼働を予定する。
EUV露光の実効解像度は光化学反応を担うPAGの性能に左右され、材料側のボトルネック解消は最先端ロジック/HBMの量産拡大に直結する。AI向け先端半導体の増産は光インターコネクトやCPOの実装需要を押し上げるため、当社の光源・光計測機器の半導体前工程向け引き合いにも波及する。
引用元：EE Times Japan
