光学関連半導体・EUV露光
産総研、先端半導体研究センターの全容を公開―2ナノ以降を束ね、2029年にEUV露光装置を備える新拠点を設置
産業技術総合研究所は先端半導体研究センターの人員を約50人から約70人へ拡大し所内最大規模としたうえで、300mmスーパークリーンルーム・100mm量子ビット開発ライン・東京大学とのAIチップ設計拠点の3施設体制を公開した。2029年には最先端EUV露光装置を備える新拠点を設ける計画で、キヤノンと進めるナノインプリント(EUV比1/10の消費電力)との使い分けを前提とする。
露光・計測光学が国策研究の中核に据えられた格好で、公的研究拠点の装置更新は光源・光学素子・光計測の継続調達を生む。当社の官公庁・研究機関チャネルにおける中長期の案件母体となる動きだ。
引用元：ニュースイッチ(日刊工業新聞)
