光学関連光学測定・半導体
日本光学会、第29回光設計賞を発表ー光学平面の全面絶対形状測定の干渉計システムが奨励賞
日本光学会は2026年9月9日、第29回光設計賞を発表した。光設計奨励賞にはオリンパスの富田恵多氏・熊谷俊樹氏・長池康成氏、元産総研の日比野謙一氏、東京大学の高橋哲氏による「光学平面の全面絶対形状測定を実現する干渉計装置システムの開発」が、光設計特別賞には香川大学の石丸伊知郎氏ら7名の「中赤外パッシブ分光イメージング設計法の開発」が選ばれ、授賞式は12月16日に浜松市で行われる。
全面絶対形状測定は参照面の誤差に依存せず平面度を決められる技術で、半導体露光光学系やCPO向け光学部品の品質保証精度を底上げする。中赤外パッシブ分光と併せ、いずれもセブンシックスが扱う干渉計・分光計測機器の応用提案に直結するテーマである。
引用元：オプトロニクスオンライン
