光学関連フォトニクス・小型化
Harvard SEASとマックス・プランク研究所、極小の窒化シリコン・フォトニクス部品を共同開発一従来設計比で最大500分の1
Harvard SEASとマックス・プランク光科学研究所は、従来設計の最大500分の1のサイズとなる窒化シリコン(SiN)光学部品を共同開発したと発表した。量子フォトニック回路をはじめとするデバイスの小型化に道を開く成果としている。
SiNは低損失・広帯域でCPOや光インターコネクトの導波路材料として採用が進む領域であり、部品の極小化はチップ実装密度に直結する。当社が扱う光源・計測系でも、微小デバイス評価のニーズ拡大が見込まれる。
引用元：optics.org
