光学関連EUV露光・半導体
ASML、High-NA EUVが量産段階へ―4顧客で10台稼働・累計135万枚露光
ASMLのHigh-NA EUV(開口数0.55)は4顧客で計10台が稼働し、さらに3台が出荷・据付段階にあると報じられた。累計露光枚数は135万枚、EXE: 5200Bのスループットは135WPHで、IntelがCore Ultra Series 3で世界初の量産適用、SK hynixもM16 DRAM工場に導入している。
EUV露光は超精密光学系そのものであり、量産拡大はミラー計測・波面評価・レーザー光源関連の需要を押し上げる。AI半導体の微細化進展はCPO・光I/Oの実装密度要求とも表裏一体で、当社の光計測・レーザー分野の中長期需要を支える。
引用元：TrendForce
