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光学関連レーザー, 生産設備

Innolume、Veeco 「GEN2000」MBE装置を導入し量子ドットレーザーを増産―イオンビーム成膜も併せて導入

InnolumeはVeecoのGEN2000分子線エピタキシー装置を購入し、次世代光トランシーバ・シリコンフォトニクス向けGaAs系量子ドットレーザーの生産能力を拡大する。低損失ARコート/高反射コート用にVeecoのSpectorイオンビーム成膜装置も導入する。

量子ドットレーザーは温度安定性と低消費電力でCPOに適し、増産は光源調達の逼迫緩和につながる。当社取扱メーカの供給能力拡大として注視すべき動きだ。

引用元:Semiconductor Today